最適なプロセス均一性と安定性

  • ウエハーテーブルは、静的または回転モードで動作させることができます。
  • さらに均一性を高めるために均一マスクを装着したり、高レートプロセスのために取り外すことができます。
  • RFバイアスにより、プラズマプリクリーニングができます。
  • ロードロックウエハーエントリーはパーティクル汚染を最小限に抑えます。
  • 湿気に敏感なアプリケーションまたは究極のベース圧のためのオプションのクライオポンプ

均一性*:


100 mm お問い合わせください
125 mm お問い合わせください
150 mm お問い合わせください

 

物理学会の為、説明員が2人九州大学に行ったのですが、大盛況過ぎて弊社の事業部長の所に列はできてしまうし、もう一人は、お客様を裁く事でいっぱいとなり、写真が撮っている暇が無かったと連絡がありました。 嬉しい悲鳴です。今日は最終日、もしお時間がございましたら、覗いてみてください
11:06 午後 - 16 3 19
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