PlasmaPro NGP1000 PECVDシステム。 SiO2とSiNx層のデポジションのために設計。

  • NGP1000のPECVD法は、特に高輝度LEDの生産にパッシベーション蒸着をするために開発されました。
  • 大面積電極および最適化されたシャワーヘッドの設計は、シングルロードで各種ウエハーサイズ(batch)まで可能
物理学会の為、説明員が2人九州大学に行ったのですが、大盛況過ぎて弊社の事業部長の所に列はできてしまうし、もう一人は、お客様を裁く事でいっぱいとなり、写真が撮っている暇が無かったと連絡がありました。 嬉しい悲鳴です。今日は最終日、もしお時間がございましたら、覗いてみてください
11:06 午後 - 16 3 19
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