PlasmaPro 800Plusの主な特長

  • 各種ウエハー、8/200mm、12/300mmをbatchにてロードできます。
  • 基板温度制御は400℃まで提供できます。
  • レーザー干渉法および/ ​​または発光分光法によるエンドポイント検出をPlasmaPro 800Plusに取り付けることができ、エッチング制御を強化できます。
  • オプションの各種ガスポッドは、プロセスおよびプロセスガスの柔軟性を提供し、リモートで離れたメインプロセスツールから、サービスエリアでサイトを選定することができます。
  • HBLEDプロセスが産業実証されています。
物理学会の為、説明員が2人九州大学に行ったのですが、大盛況過ぎて弊社の事業部長の所に列はできてしまうし、もう一人は、お客様を裁く事でいっぱいとなり、写真が撮っている暇が無かったと連絡がありました。 嬉しい悲鳴です。今日は最終日、もしお時間がございましたら、覗いてみてください
11:06 午後 - 16 3 19
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