イオン源

  • リーディングイオン源及びグリッド技術
  • グリッドは、特定のアプリケーションに合わせて設計されています:高均一、高レート及び低エネルギー
  • 特定デポジショングリッドは、複数のターゲットに合わせて設定され、ターゲット材料を十分に利用できるようになります。
  • エッチングソースオプション
  • 外気にウエハーを曝さずに、デュアルビーム構成(エッチングプラス蒸着源)エッチング直後にキャップ層を追加する可能性を提供します。
  • プラズマラジカル源としてエッチングソースを使用することにより増加した成膜速度(IASD)
アサイラム・リサーチのAFMが超高分解能の新基準を打ち立てました!AFMを溶液製膜法と組み合わせることにより、ポリマー構造の特性評価において、シンプルかつ超高分解能なアプローチを提供する事が可能に‼ 詳細は、”Nature”… https://t.co/Sv3gO79mpn
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