Inductively Coupled Plasma (ICP) Etch for Failure Analysis

Process Specification

  PlasmaPro NGP80 ICP65
  Etch Rate (Å/min) Selectivity Uniformity (50mm wafer)
Polyimide お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
SiNx Depassivation  お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
SiOx ILD (BPSG, TEOS) お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
SiOx with higher selectivity to Nitride お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい -
Bulk Si removal お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい -
 

 

物理学会の為、説明員が2人九州大学に行ったのですが、大盛況過ぎて弊社の事業部長の所に列はできてしまうし、もう一人は、お客様を裁く事でいっぱいとなり、写真が撮っている暇が無かったと連絡がありました。 嬉しい悲鳴です。今日は最終日、もしお時間がございましたら、覗いてみてください
11:06 午後 - 16 3 19
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