Silicon (Si) Isotropic Etching

  • Isotropic Si etch with high selectivity to Photoresist (PR) and Silicon Oxide (SiO2)
  • Also applicable as a MEMS release etch

SEM image shows an isotropic Silicon (Si) etch

 

 

Process Specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 100 Cobra PlasmaPro Estrelas100
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Type of etch:   お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to SiO2: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 

 

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6:33 午前 - 19 4 19
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