Molybdenum (Mo) ICP Etching

The SEM image shows a 200nm thick Mo film etched with profile >85°. The photoresist has been stripped.

 

 

Typical results

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380
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アサイラム・リサーチのAFMが超高分解能の新基準を打ち立てました!AFMを溶液製膜法と組み合わせることにより、ポリマー構造の特性評価において、シンプルかつ超高分解能なアプローチを提供する事が可能に‼ 詳細は、”Nature”… https://t.co/Sv3gO79mpn
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