Titanium (Ti) Etching

Ti may be dry etched using the Inductively Coupled Plasma (ICP) process technique.

SEM image shows a very deep PI masked Ti etch
 

 

Process Specification

  PlasmaPro NGP80 ICP65 PlasmaPro100 ICP180 PlasmaPro100 ICP380
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Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PI: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい

    

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6:33 午前 - 19 4 19
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