Gallium Phosphide (GaP) Lens Etching

GaP lens may be dry etched using Inductively Coupled Plasma (ICP) Etching with a photoresist mask.

SEM image shows a typical GaP lens etch structure, Photoresist as a mask

 

 

 

 

Process Specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380
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Selectivity to PR: お問い合わせください お問い合わせください
Uniformity: お問い合わせください お問い合わせください
Wafer size: お問い合わせください お問い合わせください
 

 

物理学会の為、説明員が2人九州大学に行ったのですが、大盛況過ぎて弊社の事業部長の所に列はできてしまうし、もう一人は、お客様を裁く事でいっぱいとなり、写真が撮っている暇が無かったと連絡がありました。 嬉しい悲鳴です。今日は最終日、もしお時間がございましたら、覗いてみてください
11:06 午後 - 16 3 19
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