Gallium Nitride (GaN) ICP Etching

GaN may be etched using the Inductively Coupled Plasma (ICP) Etching process.

SEM image shows GaN mesa with hard mask still in place

  PlasmaPro System133 ICP380 PlasmaPro 100 ICP180
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物理学会の為、説明員が2人九州大学に行ったのですが、大盛況過ぎて弊社の事業部長の所に列はできてしまうし、もう一人は、お客様を裁く事でいっぱいとなり、写真が撮っている暇が無かったと連絡がありました。 嬉しい悲鳴です。今日は最終日、もしお時間がございましたら、覗いてみてください
11:06 午後 - 16 3 19
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