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AlGaN/GaN Etching

AlGaN/GaN Etching

AlGaN/GaN may be dry etched with either photoresist or hard mask using RIE ICP or Etching

ZnSe Etch

Zinc Selenide (ZnSe) Etching

アサイラム・リサーチのAFMが超高分解能の新基準を打ち立てました!AFMを溶液製膜法と組み合わせることにより、ポリマー構造の特性評価において、シンプルかつ超高分解能なアプローチを提供する事が可能に‼ 詳細は、”Nature”… https://t.co/Sv3gO79mpn
6:33 午前 - 19 4 19
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