Titanium Nitride (TiN) Deposition

TiN may be deposited using the following process types:

Titanium Nitride (TiN) Atomic Layer Deposition (ALD) 

Titanium Nitride (TiN) Atomic Layer Deposition (ALD)

TiN may be deposited using Atomic Layer Deposition  (ALD).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Process Specification

Precursors: お問い合わせ下さい
Non-metal precursors: お問い合わせ下さい
Temperature range: お問い合わせ下さい
Growth rate per cycle: お問い合わせ下さい
Deposition rate: お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい
 

 

Titanium Nitride (TiN) Sputter Deposition 

Titanium Nitride (TiN) Deposition

TiN has may be deposited using Physical Vapour Deposition  (PVD), also known as Sputter Deposition.

 

 

 

Process Specification

アサイラム・リサーチのAFMが超高分解能の新基準を打ち立てました!AFMを溶液製膜法と組み合わせることにより、ポリマー構造の特性評価において、シンプルかつ超高分解能なアプローチを提供する事が可能に‼ 詳細は、”Nature”… https://t.co/Sv3gO79mpn
6:33 午前 - 19 4 19
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