Silicon Dioxide (SiO2) Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD)

SiOmay be deposited using Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD).

Process Specification:

  PlasmaProNGP80 PECVD PlasmaPro 100PECVD PlasmaProSystem133 PECVD PlasmaPro 800Plus PECVD PlasmaPro 1000
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Refractive Index お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
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アサイラム・リサーチのAFMが超高分解能の新基準を打ち立てました!AFMを溶液製膜法と組み合わせることにより、ポリマー構造の特性評価において、シンプルかつ超高分解能なアプローチを提供する事が可能に‼ 詳細は、”Nature”… https://t.co/Sv3gO79mpn
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