Silicon Dioxide (SiO2) deposition

SiO2 may be deposited using the following process types:

The SEM image shows SiO2 Silicon Dioxide Deposition at 170nm using the TEOS process over a 1µm step.

Silicon Dioxide (SiO2) PECVD 

Silicon Dioxide (SiO2) Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD)

SiO2 may be deposited using Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD).

Process Specification:

  PlasmaProNGP80 PECVD PlasmaPro 100PECVD PlasmaProSystem133 PECVD PlasmaPro 800Plus PECVD PlasmaPro 1000
Deposition Rate お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Refractive Index お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Stress お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Single Wafer Size お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Batch Size お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 

 

Silicon Dioxide (SiO2) TEOS 

Silicon Dioxide (SiO2) using TEOS

SiO2 may be deposited using TEOS for conformal step coverage.

SEM image shows TEOS PECVD showing 84% conformal step coverage (415nm horizontal, 350nm sidewall) SiO2 on Silicon step structure.

 

Process Specification:

  PECVD ICP CVD
  PlasmaPro 100 PECVD PlasmaPro System133 PECVD PlasmaPro 100 ICP380
Deposition Rate お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Single wafer size お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Batch size お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Refractive Index お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Stress お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい

 

Silicon Dioxide (SiO2) Atomic Layer Deposition (ALD) 

Silicon Dioxide (SiO2) Plasma ALD

AlN may be deposited using Atomic Layer Deposition  (ALD).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Process Specification

Precursors: お問い合わせ下さい
Non-metal precursors: お問い合わせ下さい
Temperature range: お問い合わせ下さい
Growth rate per cycle: お問い合わせ下さい
Deposition rate: お問い合わせ下さい
Refractive Index: お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい
 

 

Silicon Dioxide (SiO2) ICP CVD 

Silicon Dioxide (SiO2) ICP CVD

SiO2 may be deposited using Indictively Coupled Plasma Chemical Vapour Deposition (ICP CVD).

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 133 ICP380
Deposition rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 		 お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Refractive Index: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Single wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Batch size お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Stress: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい

 

Silicon Dioxide (SiO2) Sputter Deposition 

Silicon Dioxide (SiO2) Sputter Deposition

Process Specification

  PlasmaPro System400
Deposition rate: お問い合わせ下さい
Refractive Index: お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい
Single wafer size: お問い合わせ下さい
Batch size: お問い合わせ下さい

 

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