オックスフォード・インストウルメンツ:ALD(原子層堆積装置)による材料特性のチューニング
2014年1月24日

ALD(原子層堆積装置)は超薄膜を成膜するのに用いられてきました。原子層レベルの制御は成膜中、膜材料特性のチューニング能力を増大させます。当社のプラズマALDは、基板にバイアス電圧を印加することによって、さらにその機能を高めることができます。この新技術は成膜中、応力から結晶までの正確な特性調整を可能にし、現在主流の半導体アプリケーションに加えて、MEMS、LED及びパワー半導体などの多様なアプリケーションに応用が広がっています。

http://www.i-micronews.com/news/Oxford-Instruments-Tuning-material-properties-ALD,11335.html

物理学会の為、説明員が2人九州大学に行ったのですが、大盛況過ぎて弊社の事業部長の所に列はできてしまうし、もう一人は、お客様を裁く事でいっぱいとなり、写真が撮っている暇が無かったと連絡がありました。 嬉しい悲鳴です。今日は最終日、もしお時間がございましたら、覗いてみてください
11:06 午後 - 16 3 19
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