最適なプロセス均一性と安定性

  • ウエハーテーブルは、静的または回転モードで動作させることができます。
  • さらに均一性を高めるために均一マスクを装着したり、高レートプロセスのために取り外すことができます。
  • RFバイアスにより、プラズマプリクリーニングができます。
  • ロードロックウエハーエントリーはパーティクル汚染を最小限に抑えます。
  • 湿気に敏感なアプリケーションまたは究極のベース圧のためのオプションのクライオポンプ

均一性*:


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#顕微鏡学会 弊社のランチョンセミナー大盛況でした。 参加して下さった皆様ありがとうございました。 そして、弊社はより良い製品を皆様に届ける事が出来るよう日々研鑽してまいります。 pic.twitter.com/VKk1wf1Llz
5:39 午前 - 29 5 18
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