最適なプロセス均一性と安定性

  • ウエハーテーブルは、静的または回転モードで動作させることができます。
  • さらに均一性を高めるために均一マスクを装着したり、高レートプロセスのために取り外すことができます。
  • RFバイアスにより、プラズマプリクリーニングができます。
  • ロードロックウエハーエントリーはパーティクル汚染を最小限に抑えます。
  • 湿気に敏感なアプリケーションまたは究極のベース圧のためのオプションのクライオポンプ

均一性*:


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オックスフォードは、EDS分析システム「AZtecEnergy」、「INCAEnergy」、WDS分析システム「INCAWave」、EBSD分析システム「AZtecHKL」の計4種類の装置講習会を下記の内容にて開催いたします。2日… https://t.co/B6SWcPMELw
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