PlasmaPro 800Plusの主な特長

  • 各種ウエハー、8/200mm、12/300mmをbatchにてロードできます。
  • 基板温度制御は400℃まで提供できます。
  • レーザー干渉法および/ ​​または発光分光法によるエンドポイント検出をPlasmaPro 800Plusに取り付けることができ、エッチング制御を強化できます。
  • オプションの各種ガスポッドは、プロセスおよびプロセスガスの柔軟性を提供し、リモートで離れたメインプロセスツールから、サービスエリアでサイトを選定することができます。
  • HBLEDプロセスが産業実証されています。
オックスフォードは、EDS分析システム「AZtecEnergy」、「INCAEnergy」、WDS分析システム「INCAWave」、EBSD分析システム「AZtecHKL」の計4種類の装置講習会を下記の内容にて開催いたします。2日… https://t.co/B6SWcPMELw
10:46 午後 - 26 3 18
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