Nanofab800Agileシステムプロセスの利点

  • ナノチューブやナノワイヤの制御成長
  • 成長強化のための触媒プラズマ前処理
  • 最大800℃のアニーリング性能
  • 均一性に優れ、高成膜レート及び屈折率等、ストレス、電気的特性及び湿式化学エッチング速度などの膜特性の制御を伴うPECVD成膜
ナノ構造材料 C, Si, Ge, ZnO, Ga2O3, GaN, GaAs, GaP, InP, InN
PECVD膜 SiO2, SiNx, a-Si, SiON, poly-Si, SiC