Nanofab™700ナノスケール成長システムは、その場での触媒活性化と厳格なプロセス制御をナノチューブやナノワイヤの高性能成長を実現しています。

  • 最大200mmウエハーまでのサンプルサイズ
  • PECVDフィルム機能
  • 化合物半導体ナノワイヤの有機金属気相成長法(MOCVD)前駆体供給
  • 膜応力の配向成長と制御
  • 優れた温度均一性、および柔軟なアジリティコントロール
  • 高圧および高流制度のプロセス能力
  • オプション液体ソース配信システム
  • 独立した試料調整とプロセス操作を提供する真空ロードロック

プロセスツールの特長

Nanofab700プロセスツールの機能

  • 最大700℃までの温度域によるナノチューブやナノワイヤの制御成長
  • 液体プリカーサオプション
  • チャンバークリーニング能力と触媒プラズマ前処理
  • PECVD 及び高温成膜
  • ロードロック機構
  • 酸素を含むプロセスガスの広範囲な互換性

プロセスの利点

Nanofab700プロセスの利点

  • ナノチューブやナノワイヤの制御可能な成長
  • 成長強化のための触媒プラズマ前処理
  • 最大700℃のアニーリング性能
  • 均一性に優れ、高成膜レート及び屈折率等。ストレス、電気的特性及び湿式化学エッチング速度などの膜特性の制御を伴うPECVD成膜
ナノ構造材料 C, Si, Ge, ZnO, Ga2O3, GaN, GaAs, GaP, InP, InN
PECVD膜 SiO2, SiNx, a-Si, SiON, poly-Si, SiC