Optofab3000イオンソース

  • リーディングイオンソース及びグリッド技術
  • グリッドは、特定のアプリケーションに合わせて設計されています:均一性、高レート、低エネルギー
  • 特定成膜グリッドは、複数のターゲットに合​​わせて設定し、ターゲット材料の優れた利用を提供します。
  • エッチングソースオプション
  • デュアルビーム構成(エッチングプラス蒸着源)が大気中にプロセスチャンバーまたはウエハーを外気に曝さずに、エッチング後にキャップ層を追加する可能性を提供します。
  • プラズマラジカルソースとしてエッチングソースを使用することにより増加した成膜速度(IASD)