高品質光学アプリケーションのために開発

高反射と反射防止用コーティング材料など、Optofab3000は、実績のあるIonfab300Plusアーキテクチャに基づいて、Ionfab300Plusの同じ機能と利点を持ち、さらに追加された機能を提供します。

  • システムに取り付けられた高速試料ホルダー
  • 膜均一性の向上と均一性シールドを使用するオプションあり
  • 高成膜レートは独自のイオン源を使用することにより達成可能
  • 優れた屈折率データはアシストソースを使用して達成可能
  • 白色光光学モニタを使用するオプションは、Optofab3000に使用可能

Optofab3000基板ハンドリング

単一ツールの柔軟性

  • 任意形状をクランプする機構及びユニークデザインのキャリアプレート
  • ウエハハンドリングオプション
  • ロードロック機構
  • バッチ生産のためのカセットtoカセットの搬送可能
  • オックスフォード・インストゥルメンツのPlasmaProプラズマエッチング、デポジションやスパッタリングツール、及びFlexAL原子層堆積(ALD)ツールを含む他のプロセスツールとクラスタリング可能
  • エッチングとデポジションのソースを追加するためのシンプルなアップグレード・オプション

プロセス制御

Optofab3000プロセス制御

  • 傾斜可能な基板ホルダー
  • ブレーズグレーティングを有効にします。
  • 側壁をふき取りまたはエッチングすることができるようになります。
  • ターゲットに関係する基板の角度制御は優れた成膜均一性を確実にします。

基板回転速度

  • 可変基板の回転速度は、アプリケーション標準と高速基板オプションを特別に成膜レートを制御可能にします。

基板冷却

  • 基板やデバイス構造/他の材料の劣化を防止

プロセス監視

  • 成膜プロセスの監視
  • 液晶モニター(シングルまたはデュアルヘッド)
  • ホワイト·ライト光学モニター(WLOM)
  • チャンバーガスの識別、分圧の制御とリークはRGAを介してチェックされます。

アプリケーション

代表的なアプリケーション

  • IRディテクター
  • メタルコンタクトとトラックエッチ
  • 回折格子
  • SiO2のブレーズ・エッチング
  • スピントロニクスとMRAM
  • レーザーバーのAR及びHRコーティング
  • テレコムフィルター
  • III-Vフォトニクスエッチング
  • 薄膜磁気ハードディスクヘッド(TFMH)

イオンソース

Optofab3000イオンソース

  • リーディングイオンソース及びグリッド技術
  • グリッドは、特定のアプリケーションに合わせて設計されています:均一性、高レート、低エネルギー
  • 特定成膜グリッドは、複数のターゲットに合​​わせて設定し、ターゲット材料の優れた利用を提供します。
  • エッチングソースオプション
  • デュアルビーム構成(エッチングプラス蒸着源)が大気中にプロセスチャンバーまたはウエハーを外気に曝さずに、エッチング後にキャップ層を追加する可能性を提供します。
  • プラズマラジカルソースとしてエッチングソースを使用することにより増加した成膜速度(IASD)

Optofab3000 Image Gallery

Simulation of a high performance optical filter

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In-situ monitoring of optical coating deposition

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Multi-layer optical coating design

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