イオン源

  • リーディングイオン源及びグリッド技術
  • グリッドは、特定のアプリケーションに合わせて設計されています:高均一、高レート及び低エネルギー
  • 特定デポジショングリッドは、複数のターゲットに合わせて設定され、ターゲット材料を十分に利用できるようになります。
  • エッチングソースオプション
  • 外気にウエハーを曝さずに、デュアルビーム構成(エッチングプラス蒸着源)エッチング直後にキャップ層を追加する可能性を提供します。
  • プラズマラジカル源としてエッチングソースを使用することにより増加した成膜速度(IASD)