イオン源

  • リーディングイオン源及びグリッド技術
  • グリッドは、特定のアプリケーションに合わせて設計されています:高均一、高レート及び低エネルギー
  • 特定デポジショングリッドは、複数のターゲットに合わせて設定され、ターゲット材料を十分に利用できるようになります。
  • エッチングソースオプション
  • 外気にウエハーを曝さずに、デュアルビーム構成(エッチングプラス蒸着源)エッチング直後にキャップ層を追加する可能性を提供します。
  • プラズマラジカル源としてエッチングソースを使用することにより増加した成膜速度(IASD)
オックスフォードは、EDS分析システム「AZtecEnergy」、「INCAEnergy」、WDS分析システム「INCAWave」、EBSD分析システム「AZtecHKL」の計4種類の装置講習会を下記の内容にて開催いたします。2日… https://t.co/B6SWcPMELw
10:46 午後 - 26 3 18
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