Silicon (Si) Mixed Etching

Continuously passivating Si etch offering smooth sidewalls in a low etch rate, low selectivity and low aspect ratio process. Also suitable for nanoscale etching.

SEM image shows (CHF3) Waveguides

 

 

 

Process specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 100 Cobra PlasmaPro Estrelas100
Rate:  お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Type of etch:   お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Aspect ratio: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい