Nanoscale Cryo Silicon (Si) Etching

  • Nanoscale Si etching using simple and extremely clean plasma chemistry at cryogenic temperatures
  • Offers a unique combination of rate, selectivity and high aspect ratio capability at the nanoscale
  • Features from 10nm to 500nm

SEM image shows nanoscale cryo Si etch with 50nm trenches

 

Process specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 100 Cobra PlasmaPro 100 Estrelas
Rate:  お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Type of etch:   お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Aspect ratio: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい

 

業界初のCMOS tousai EBSD検出器SymmetryトライブX線イメージングシステムAZtechLiveの最新情報をお届けするセミナーを6月22日(金)13:00~17:10 行います。詳しくは弊社のホームページにて、… https://t.co/rdBEZBfo2A
2:16 午前 - 20 6 18
さらにTweetを見る