Nanoscale Cryo Silicon (Si) Etching

  • Nanoscale Si etching using simple and extremely clean plasma chemistry at cryogenic temperatures
  • Offers a unique combination of rate, selectivity and high aspect ratio capability at the nanoscale
  • Features from 10nm to 500nm

SEM image shows nanoscale cryo Si etch with 50nm trenches

 

Process specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 100 Cobra PlasmaPro 100 Estrelas
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Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Type of etch:   お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Aspect ratio: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい