Cryogenic Deep Silicon (Si) Etch

  • Deep Si etching using a simple and extremely clean plasma chemistry at cryogenic temperatures
  • Vertical features with smooth sidewalls

SEM image shows a Cryogenic Deep Si trench array

 

 

Process Specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 100 Cobra PlasmaPro Estrelas100
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Nanoscale Cryo Silicon (Si) Etching

Nanoscale Cryo Silicon (Si) Etching

  • Nanoscale Si etching using simple and extremely clean plasma chemistry at cryogenic temperatures
  • Offers a unique combination of rate, selectivity and high aspect ratio capability at the nanoscale
  • Features from 10nm to 500nm

SEM image shows nanoscale cryo Si etch with 50nm trenches

 

Process specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 100 Cobra PlasmaPro 100 Estrelas
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