Polyimide (PI) ICP Etching for Failure Analysis

PI has applications can be used for Failure Analysis. It has excellent process repeatability and clean removal of a wide range of materials is possible, without lifting of metal tracks.

  PlasmaPro System133 ICP380
Etch rate: お問い合わせください
Uniformity: お問い合わせください
Selectivity to SiNx: お問い合わせください
Wafer size: お問い合わせください

 

オックスフォードは、EDS分析システム「AZtecEnergy」、「INCAEnergy」、WDS分析システム「INCAWave」、EBSD分析システム「AZtecHKL」の計4種類の装置講習会を下記の内容にて開催いたします。2日… https://t.co/B6SWcPMELw
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