Titanium Nitride (TiN) ICP Etching

The SEM image shows anisotropic nanoscale TiN etching ( 90 nm line) Courtesy of AMO Aachen*
* See also M.C. Lemme, J.K. Efavi, T. Mollenhauer, M. Schmidt, H.D.B. Gottlob, T. Wahlbrink,H. Kurz, "Nanoscale TiN metal gate technology for CMOS integration", Microelectronic Engineering, 83(4-9): 1551-1554, 2006.
 


 

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380
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