Tantalum (Ta) ICP Etch

Application as an X-ray mask absorber on a SiN or SiC membrane

The SEM image shows 1µm deep Tantalum Etch etching

 

Process Specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to Al2O3: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 

 

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