Niobium (Nb) ICP Etching  

Nb may be dry etched using the Inductively Coupled Plasma (ICP) process technique.

  ICP65 (NGP80 or PlasmaPro100) PlasmaPro100 ICP180 PlasmaPro100 ICP380
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Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
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