Niobium (Nb) Etching

Nb may be dry etched using the following process types:

SEM image shows 0.3µm Nb etched by RIE, PR mask still in place

Niobium (Nb) ICP Etching

Niobium (Nb) ICP Etching  

Nb may be dry etched using the Inductively Coupled Plasma (ICP) process technique.

  ICP65 (NGP80 or PlasmaPro100) PlasmaPro100 ICP180 PlasmaPro100 ICP380
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to SiO2: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 

 

Niobium (Nb) Reactive Ion Etching (RIE)

Niobium (Nb) Reactive Ion Etching (RIE)

  PlasmaPro NGP80RIE PlasmaPro 100RIE PlasmaPro 800RIE
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to SiO2: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Batch size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい