Chromium (Cr) ICP Etching

Cr and related films may be dry etched smoothly using ICP process chambers.


SEM image shows 100nm Cr layer etched down to quartz substrate using ICP380


Process specification:

  PlasmaPro100 ICP180 PlasmaPro100 ICP380
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to SiO2: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい


オックスフォード・インストゥルメンツが、日本金属学会(千葉工業大学 7号館1階)にて、新製品AZtechLiveやSymmetryをはじめ、EDS/EBSD/WDS製品をブース内で紹介しています。金属材料や金属加工を研究されている…
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