Chromium (Cr) ICP Etching

Cr and related films may be dry etched smoothly using ICP process chambers.

 

SEM image shows 100nm Cr layer etched down to quartz substrate using ICP380

 

Process specification:

  PlasmaPro100 ICP180 PlasmaPro100 ICP380
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to SiO2: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい