Aluminium (Al) ICP Etching

Al and related films may be dry etched smoothly using ICP process chambers.

SEM image shows anisotropic Al etch with resist intact

 
 

  ICP65 (NGP80 or PlasmaPro100) PlasmaPro100 ICP180 PlasmaPro100 ICP380
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Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
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Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい