Smooth anisotropic Silicon Carbide (SiC) ICP Etching
SEM shows typical SiC features etched with the metal masked ICP etch process
Process Specification
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ICP180 (PlasmaPro100) |
ICP380 (PlasmaPro100) |
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Etch rate: |
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Uniformity: |
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Selectivity to Al: |
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Selectivity to Ni: |
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Wafer size: |
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