Smooth anisotropic Silicon Carbide (SiC) ICP Etching

SEM shows typical SiC features etched with the metal masked ICP etch process



Process Specification

  ICP180 (PlasmaPro100) ICP380 (PlasmaPro100)
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to Al: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to Ni: - お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい


10:46 午後 - 26 3 18