Lithium Tantalate (LiTaO3) Dry ICP Etching

LiTaOand related films may be dry etched smoothly in a chlorine free process using ICP etch processchambers.

SEM image shows 7µm dry ICP etch of LiTaO3






Process specification:

  PlasmaPro10 ICP180 PlasmaPro100 ICP380
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to Cr: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい


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