Lithium Niobate (LiNbO3) Dry ICP Etching

LiNbOand related films may be dry etched smoothly using ICP process chambers.

SEM image shows dry ICP LiNbOetch with smooth sidewall





Process specification:

  ICP180 (PlasmaPro100) ICP380 (PlasmaPro100)
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to Cr: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい


10:46 午後 - 26 3 18