Lithium Niobate (LiNbO3) Dry ICP Etching
LiNbO3 and related films may be dry etched smoothly using ICP process chambers.
SEM image shows dry ICP LiNbO3 etch with smooth sidewall
Process specification:
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ICP180 (PlasmaPro100) |
ICP380 (PlasmaPro100) |
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Etch rate: |
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Uniformity: |
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Selectivity to Cr: |
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Selectivity to PR: |
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Wafer size: |
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