Lithium Niobate (LiNbO3) Dry ICP Etching

LiNbOand related films may be dry etched smoothly using ICP process chambers.
 

SEM image shows dry ICP LiNbOetch with smooth sidewall

 

 

 

 

Process specification:

  ICP180 (PlasmaPro100) ICP380 (PlasmaPro100)
Etch rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to Cr: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 

 

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