Indium Phosphide (InP) Reactive Ion Etch (RIE)

InP may be dry etched using the Reactive Ion Etching (RIE) process technique


SEM image shows 3x3” batch InP wafer etched using ICP CH4/H2 process with Photo resist mask

 

 

Process Specification

 

  PlasmaPro NGP80 RIE PlasmaPro 100 RIE PlasmaPro System133 RIE
Etch Rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Single wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Batch size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Selectivity to PR: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい