Gallium Phosphide (GaP) Lens Etching

GaP lens may be dry etched using Inductively Coupled Plasma (ICP) Etching with a photoresist mask.

SEM image shows a typical GaP lens etch structure, Photoresist as a mask





Process Specification

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380
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Selectivity to PR: お問い合わせください お問い合わせください
Uniformity: お問い合わせください お問い合わせください
Wafer size: お問い合わせください お問い合わせください


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