Aluminium Gallium Nitride/Gallium Nitride (AlGaN/GaN) Inductively Coupled Plasma Etching (ICP)

AlGaN/GaN may be etched using the Inductively Coupled Plasma (ICP) Etching process.

SEM image shows hard masked GaN/AlGaN etching in the PlasmaPro 100 ICP180

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro System133 ICP380
Mask: Photoresist Hard mask Photoresist Hard mask
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