Polysilicon (PolySi) Deposition

Process features

  • Parallel Plate Reactor
  • Shower Head Gas inlet
  • SiH4 based process
  • LPCVD of polycrystalline silicon at 650°C

Process specification

Rate: お問い合わせください
Uniformity: お問い合わせください

XRD and Raman analysis of the as deposited films demonstrate the crystalline nature of the films:

#顕微鏡学会 弊社のランチョンセミナー大盛況でした。 参加して下さった皆様ありがとうございました。 そして、弊社はより良い製品を皆様に届ける事が出来るよう日々研鑽してまいります。 pic.twitter.com/VKk1wf1Llz
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