Amorphous Silicon (a-Si) PECVD

a-Si may be deposited using Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD).

  PlasmaPro NGP80 PECVD PlasmaPro 100 PECVD PlasmaPro System133 PECVD PlasmaPro 800Plus PECVD
Deposition Rate お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください
Uniformity お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください
Stress お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください
Single Wafer Size お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください
Batch Size お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください お問い合わせください