Titanium Oxide (TiO2) Sputter Deposition

TiO2 may be deposited using Physical Vapour Deposition  (PVD), also known as Sputter Deposition.

 

 

 

Process Specification

  PlasmaPro System400
Deposition rate: お問い合わせください
Uniformity: お問い合わせください
Single wafer size: お問い合わせください
Batch size: お問い合わせください

 

#顕微鏡学会 弊社のランチョンセミナー大盛況でした。 参加して下さった皆様ありがとうございました。 そして、弊社はより良い製品を皆様に届ける事が出来るよう日々研鑽してまいります。 pic.twitter.com/VKk1wf1Llz
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