Silicon Dioxide (SiO2) Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD)

SiOmay be deposited using Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD).

Process Specification:

  PlasmaProNGP80 PECVD PlasmaPro 100PECVD PlasmaProSystem133 PECVD PlasmaPro 800Plus PECVD PlasmaPro 1000
Deposition Rate お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
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Refractive Index お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
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