Silicon Dioxide (SiO2) ICP CVD

SiO2 may be deposited using Indictively Coupled Plasma Chemical Vapour Deposition (ICP CVD).

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 133 ICP380
Deposition rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 
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Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Refractive Index: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Single wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Batch size お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Stress: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい