Silicon Nitride (SiN) Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD)

SiN may be deposited with and without ammonia using Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD).

Process Specification:

  PlasmaPro NGP80 PECVD PlasmaPro 100PECVD PlasmaProSystem133 PECVD PlasmaPro 800Plus PECVD PlasmaPro 1000
Deposition Rate お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Refractive Index お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Stress お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
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Batch Size お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 

 

#顕微鏡学会 弊社のランチョンセミナー大盛況でした。 参加して下さった皆様ありがとうございました。 そして、弊社はより良い製品を皆様に届ける事が出来るよう日々研鑽してまいります。 pic.twitter.com/VKk1wf1Llz
5:39 午前 - 29 5 18
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