Silicon Nitride (SiN) ICP CVD

SiN may be deposited using Indictively Coupled Plasma Chemical Vapour Deposition (ICP CVD).

  PlasmaPro 100 ICP180 PlasmaPro 100 ICP380 PlasmaPro 133 ICP380
Deposition rate: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Uniformity: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Refractive Index: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Single wafer size: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Batch size お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
Stress: お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい お問い合わせ下さい
 

 

#顕微鏡学会 弊社のランチョンセミナー大盛況でした。 参加して下さった皆様ありがとうございました。 そして、弊社はより良い製品を皆様に届ける事が出来るよう日々研鑽してまいります。 pic.twitter.com/VKk1wf1Llz
5:39 午前 - 29 5 18
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