PlasmalabSystem133-TEOS-PECVD-door-4.jpgPlasmaPro100およびPlasmaPro System133にてTEOSプロセスを可能にするデリバリーモジュールオプション

  • 優れた均一性と被覆性
  • 統合された専用設計ソリューション
  • 最適化された温水供給ライン
  • ハウスキーピング制御弁
  • 加熱されたTEOSモジュールは、オプションのクリップオングローブボックスを用いて切替安全バブラーと一緒に、簡単アクセスができます。
  • モジュールが完全に安全保証されているので、クリーンルーム抽出システムに接続することができます。
  • 混合パルス高/低周波電力による膜応力の制御
  • 酸素ラジカルを制御することにより、ステップカバレッジの成膜方向性の制御
  • 高品質、フォトニクス用途での被覆性の良いSiO2成膜、誘電体膜など

TEOSプロセスチャンバーハードウェア

  • 上部電極とガス注入口アセンブリ加熱用ヒータチラーオプション
  • チャンバーウオール加熱キット