プラズマテクノロジー事業部より原子層堆積法(ALD)の成膜技術について講演予定のご案内
2017年11月15日


プラズマテクノロジー事業部より
原子層堆積法(ALD)の成膜技術について講演予定のご案内

 

「題名:Atomic layer deposition general overview and recent process activity」

弊社プラズマテクノロジー事業部は、来る11月30日(木)午後12時55分より産業技術総合研究所つくば中央にて開催される「薄膜実践セミナーIII」におきまして、原子層堆積法(ALD)の成膜技術について講演をさせて頂く事となりました。

弊社講演内容
題名:Atomic layer deposition general overview and recent process activity
・ ALD技術の一般概要及び弊社装置ご説明
・ プロセス制御技術
・ 最新のアプリケーション利用例

本セミナーの詳細な案内については下記産業技術総合研究所様のサイトをご参照お願いいたします。
https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h29-4/index.html
 

さらに詳しい情報については以下にお問い合わせください。

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
プラズマテクノロジー事業部
〒140-0002 東京都品川区東品川 3-32-42 ISビル5F
Tel: 03-6732-8971
Fax: 03-6732-8939

オックスフォード・インストゥルメンツ社 プラズマテクノロジー事業部について

オックスフォード・インストゥルメンツ社 プラズマテクノロジー事業部は、精密で、制御性と再現性が要求されるマイクロ構造やナノ構造加工技術において、柔軟性に設定可能なツールと最先端のプロセスを提供しております。当社のシステムは、ナノメートルサイズ構造のエッチング、ナノレイヤーの成膜、及びナノレベルの構造に制御された薄膜成長を行うためのプロセスソリューションを提供します。

これらのソリューションは、Plasma-Enhanced Deposition & Etch、Ion-Beam Deposition & Etch、Atomic Layer Deposition、Deep Silicon Etch、Physical Vapour Depositionの中核技術に基づいています。

弊社製品は、研究開発用のコンパクトなスタンドアローンシステムから、バッチ処理システム、カセット to カセットマルチチャンバーシステムまで、ハイスループットの生産処理に対応しています。

オックスフォード・インストゥルメンツ社について

オックスフォード・インストゥルメンツ社は、研究および産業用アプリケーションに焦点を絞り、ハイテクツールやシステムを設計し、提供およびサポートを行っています。当社の50年以上にわたるイノベーションこそが、成長と成功の背景における原動力であり、その戦略は、タイムリーかつ顧客からのご要望に応える製品を市場に投入することによって、アイデアを商用化することに成功しています。

オックスフォード大学の研究所からスピンアウトし独立を果たした最初のテクノロジー関連企業であるオックスフォード・インストゥルメンツ社の目標は、ナノテクノロジーを中心とした研究および産業分野のための新世代のツールやシステムのリーディングプロバイダーであることです。主要な市場分野は、ナノ加工、ナノ材料が挙げられます。当社の戦略は、ナノテクノロジーとバイオテクノロジーが交差する生命科学分野へと事業を拡大することです。

オックスフォード・インストゥルメンツ社は、低温、高磁場、超高真空環境、核磁気共鳴、X線・電子・レーザー・光学計測、原子間力顕微鏡、光学撮像、さらには先進的な膜成長・成膜およびエッチングプロセスなどの分野で、核となる技術を結集しています。

オックスフォード・インストゥルメンツ社は、科学技術を通じて、責任ある開発と本質を追求することを目指しています。当社の専門知識を有した製品とアイデアは、エネルギー、環境、セキュリティ、保健衛生など地球規模の問題の取り組みに使われています。

© Copyright 2017 Oxford Instruments.