オックスフォード・インストウルメンツ:ALD(原子層堆積装置)による材料特性のチューニング
2014年1月24日

ALD(原子層堆積装置)は超薄膜を成膜するのに用いられてきました。原子層レベルの制御は成膜中、膜材料特性のチューニング能力を増大させます。当社のプラズマALDは、基板にバイアス電圧を印加することによって、さらにその機能を高めることができます。この新技術は成膜中、応力から結晶までの正確な特性調整を可能にし、現在主流の半導体アプリケーションに加えて、MEMS、LED及びパワー半導体などの多様なアプリケーションに応用が広がっています。

http://www.i-micronews.com/news/Oxford-Instruments-Tuning-material-properties-ALD,11335.html