高密度プラズマアシスト成膜に関する特許取得について
2013年2月8日

Oxford Instruments社は、製造及び研究用途のための装置を提供するリーディングプロバイダーです。

この度、高密度プラズマアシスト成膜に関する特許を取得しましたのでお知らせいたします。熱CVDと比較して、プラズマCVDは、主として蒸着温度を下げるプロセスを行います。今回の新規開発プロセスである高密度プラズマソースを使用することで、同一材料においてもプロセス温度を著しく下げ、SiO2膜を100℃以下で成膜させることができます。この開発はプラズマプロセスの可能性を、ポリマーを含む新しい領域の基板材料に広げることができます。

欧州特許EP1889946B1は、トーマス、グリフィス、クックを発明者として、プラズマ透過板を用いた、より広域で均一性を最適化できる方法を開示しています。この技術は、特許が出願されて以来、Oxford Instruments社によって出荷された25台以上の装置に使用されています。

Oxford Instruments社のプラズマテクノロジーのCTO(最高技術責任者)であるマイク・クック博士は、「高密度プラズマアシスト成膜に関する特許の取得は、当社にとって開発され続けてきた知的財産権の幅広いプラットフォームの一部です。Oxford Instruments社は現在多くの特許を取得しており、この知的財産は、当社のプラズマテクノロジー分野における地位の強化に影響力を及ぼすものと信じています。」と述べています。

Oxford Instruments社のプラズマテクノロジーは、柔軟に構成可能なプロセスツールと精密な最先端プロセス製造におけるリーダーであり、マイクロ・ナノ構造体の制御性・再現性の適応力には定評があります。当社のシステムは、ナノメーターサイズでのエッチング、ナノ成膜及びナノ構造体の成長制御におけるプロセスソリューションを提供しています。

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オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
布川 雅子
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