化合物半導体装置のためのICT

化合物半導体装置は、多くの産業界の重要な役割を果たします。

  • ワイヤレス
  • 家電
  • 自動車
  • 防衛
  • 電気通信

オックスフォード・インストゥルメンツのプラズマテクノロジーは、研究と生産環境に関して互換性のあるプロセスツールのリードサプライヤーです。私たちは、25年以上、製品の表側だけでなく、多くの製品の裏側用にも、ダメージの少ないプロセス方法を開発してきました。この経験を持つ私たちの、技術はこの市場に関連するすべての材料と互換性があります。当社のイオンビーム製品は、DFBレーザーおよび光学コーティング技術をリードするイオンビームデポジション製品に見られるような、エッチングの最先端の結果を提供します。
 

このアプリケーションのプロダクト

原子層堆積装置 (ALD)

原子層堆積装置 (ALD)

Atomic layer deposition (ALD) Oxford Instruments' ALD systems include the FlexAL and the OpAL.

エッチング&デポジションシステム - PlasmaPro 800Plus

エッチング&デポジションシステム - PlasmaPro 800Plus

Large capacity open-loading process solutions for plasma etch and deposition